December 1, 2023 (v1)
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Procedimiento para la preparación de capas finas porosas de óxidos inorgánicos. El objeto de la presente invención es un procedimiento para la preparación de capas finas de óxidos inorgánicos sobre substratos mediante la deposición desde fase vapor asistida por plasma que se diferencia de los procedimientos habituales porque se intercalan entre...
Uploaded on: December 3, 2023