YANGUAS GIL , Ángel

La deposición asistida por plasma (PECVD) de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas es un proceso de gran interés debido a su posible aplicación en microelectrónica como materiales de baja constante dieléctrica o low-k. En este tipo de procesos las propiedades del material están determinadas por las condiciones de deposición, en las...

Colored and fluorescent thin films are prepared via polymerization of dye molecules by interaction with a remote plasma of Ar while they are sublimated on a substrate. The films are formed by a crosslinked matrix of fragments of the original dye and some unreacted molecules. Films made of Ethyl Red or Rhodamine 6G dyes are characterized and...