Evaluation of micro laser sintering metal 3D-printing technology for the development of waveguide passive devices up to 325 GHz
- Others:
- STMicroelectronics [Crolles] (ST-CROLLES)
- Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN) ; Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
- Universidad Pública de Navarra [Espagne] = Public University of Navarra (UPNA)
- Laboratoire de Polytech Nice-Sophia (Polytech'Lab) ; Université Nice Sophia Antipolis (1965 - 2019) (UNS) ; COMUE Université Côte d'Azur (2015-2019) (COMUE UCA)-COMUE Université Côte d'Azur (2015-2019) (COMUE UCA)-Université Côte d'Azur (UCA)
- Photonique THz - IEMN (PHOTONIQUE THz - IEMN) ; Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN) ; Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
- Microélectronique Silicium - IEMN (MICROELEC SI - IEMN) ; Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN) ; Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
- Puissance - IEMN (PUISSANCE - IEMN) ; Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN) ; Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)-Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
- Renatech Network
- Laboratoire commun STMicroelectronics-IEMN T4
- Laboratoire commun STMicroelectronics-IEMN T1
- PCMP CHOP
- ANR-11-EQPX-0025,LEAF,Plateforme de traitement laser pour l'électronique flexible multifonctionnelle(2011)
Description
In this paper, we propose an assessment up to 325 GHz of Micro Laser Sintering (MLS) metal 3D-Printing technology in order to achieve lightweight and cost-effective millimeter wave (mmW) passive function. We first designed and manufactured a bended WR5 waveguide in order to assess achievable roughness and insertion loss. In a second step, an existing 240 GHz choke horn antenna design, previously manufactured using metal coated Stereo Lithography Apparatus (SLA) and Selective Laser Melting (SLM) technologies, has been prototyped using MLS. Measured performances of the MLS antenna prototype have been benchmarked with SLA and DMLS ones. Achieved performances are promising since without any post processing MLS compete up to 325 GHz with metal coated SLA technology while it enables a metallic part manufactured in a single piece.
Abstract
International audience
Additional details
- URL
- https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-03091222
- URN
- urn:oai:HAL:hal-03091222v1
- Origin repository
- UNICA